MK-300成像光譜儀BUNKOUKEIKI分(fēn)光計器(qì)用途
采用新(xīn)設計光學系統的正式聚氯乙烯。
CCD檢測受光面全域空間分(fēn)辨率優異。使用支管光纖等進行多點同時光譜測量,以及通過與顯微鏡連接進行光譜測量等。
MK-300成像光譜儀
EMDP-100埃殼光譜系統
CLP-400透鏡光譜儀
CLP-50顯微鏡連接用成像光譜儀
CLP-105 UV紫外線成像光譜儀
MCC-135多波長同時測量相機
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MK-300成像光譜儀BUNKOUKEIKI分(fēn)光計器(qì)用途
MK-300成像光譜儀BUNKOUKEIKI分(fēn)光計器(qì)用途
MK-300成像光譜儀
采用新(xīn)設計光學系統的正式聚氯乙烯。
CCD檢測受光面全域空間分(fēn)辨率優異。使用支管光纖等進行多點同時光譜測量,以及通過與顯微鏡連接進行光譜測量等。
衍射光栅最多可以搭載3張,搭載了(le)電氣控制器(qì),可以用USB電纜連接PC,用附帶的專用軟件進行波長驅動和衍射光栅切換。
特點:
将散光減少到極限,大幅改善波長兩端産生(shēng)的分(fēn)辨率降低(dī)
最多可以安裝3個衍射光栅
多點同時光譜測量
觀測圖像的光譜測量
檢測器(qì)的切換類型也(yě)有陣容。
規格:
反線型方差 2.58nm/mm
光學系統 像差校(xiào)正型特殊光學系統
亮度 F=4.4
波長分(fēn)辨率 半幅0.2nm(3pixels以内)
迷光 5×10-3以下(xià)
波長準确度 ±0.2nm(3pixels以内)
波長再現性 ±0.2nm(3pixels以内)
衍射光栅切換再現性 ±0.2nm(3pixels以内)
光學波長範圍 200~1000nm
波長移動方式 正弦機構、波長線性移動
波長驅動方式 步進馬達驅動(PC・專用軟件控制)
衍射光栅 時刻線有效50×50mm
衍射光栅切換方式 步進馬達驅動(最多可搭載3張)
入射狹縫 寬度:0.01~4mm(雙開對稱連續可變・讀取最小刻度0.01mm)
手動快(kuài)門(可選擇自動快(kuài)門)
軟件 衍射光栅切換·波長移動(USB連接)
*CCD檢測器(qì)受光尺寸26.6mm(1024×256pixels 26µm/pixels)的情況
EMDP-100光譜系統
這是一(yī)種通過Retroller色散棱鏡和E殼衍射光栅的交叉分(fēn)散雙光譜配置,能(néng)夠以高分(fēn)辨率同時測量廣波長範圍的系統。搭載ANDOR制ICCD檢測器(qì),可以使用分(fēn)光儀表專用軟件Blux進行控制。
通過結合各種測量用光學系統,可以對應等離子(zǐ)體光譜、PL和LIBS等所有測量。
特點:
一(yī)台E殼光譜系統實現了(le)波長範圍200~900nm的測量。
通過選擇Retroller色散棱鏡,可以從P1(200~270nm)、P2(270~410nm)、P3(410~900nm)3種測量波長範圍中選擇。
測量分(fēn)辨率在整個區域8500(λ/△λ)達到以上(shàng)。
在專用軟件Blux中,可以進行從ICCD檢測器(qì)測量的數據讀取到光譜顯示的數據處理(lǐ)(波長、順序連接、等間隔校(xiào)正等)。
規格:
光學布置 交叉色散雙光譜儀
測量波長範圍【3波長範圍】 200~900nm【200~270nm(P1)・270~410nm(P2)・410~900nm(P3)】
測量分(fēn)辨率 8500以上(shàng)(狹縫寬度50μm)
半光譜寬度 0.02~0.1nm(200~900nm)
焦距 波長色散用330mm階數分(fēn)離用200mm
開口比 F=10
波長色散 埃殼衍射光栅
次方差 利特勒分(fēn)散棱鏡
入射端口 帶XY調整功能(néng)的光纖支架
ICCD元件數 W2048×H512 pixel(有效1800×512pixel)
ICCD元件尺寸 13.5×13.5μm
ICCD區域大小 W27.648mm×H6.912mm(有效W24.975mm×H6.912mm)
MK-300成像光譜儀
EMDP-100埃殼光譜系統
CLP-400透鏡光譜儀
CLP-50顯微鏡連接用成像光譜儀
CLP-105 UV紫外線成像光譜儀
MCC-135多波長同時測量相機
重氫光源30W
鹵素燈電源
Xseries氙燈光源(通常)
XERseries氙燈光源(反射器(qì))
Nseries陶瓷加熱器(qì)光源(紅外光源)
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