*日本SIC旗下(xià)高功能(néng)型刻印機

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*日本SIC旗下(xià)高功能(néng)型刻印機

高功能(néng)型刻印機E10-P63,E10-P123

說明：可刻印硬度：max.Hrc62,無需空氣源,小巧輕巧的可搬性,适用于大工作(zuò)的刻印,二維代碼(Data Matrix)的刻印可能(néng)。

介紹：與以前的刻印機不同,不需要電源以外的動作(zuò)源(空氣,油壓等),能(néng)削減設備管理(lǐ)成本。代替大型工件的刻印和手工刻印合适,印章深度max.0.5mm※根據材料,通過在産品上(shàng)刻上(shàng)序列号和生(shēng)産年月(yuè)(yuè)日,批量号,生(shēng)産管理(lǐ)變得容易。沒有偏差,實現高品質的刻印,根據标記,各個産品識别,能(néng)對應PL法對策和ISO對策。

在當時激光刻字機占據了(le)大部分(fēn)的市(shì)場，因爲當時并沒有發明其他激光器(qì)，而在後來又發明了(le)半導體激光器(qì)，随之半導體激光刻字機接踵而來，在技術的不斷創新(xīn)光纖激光器(qì)又發明了(le)，能(néng)夠在激光刻字機上(shàng)用的光纖激光器(qì)也(yě)随着發明了(le)，光纖激光刻字機也(yě)就(jiù)問世了(le)。

随着市(shì)場的需要水冷的CO2激光刻字機由于體積大而不能(néng)滿足市(shì)場。随之射頻水冷式的CO2射頻激光器(qì)誕生(shēng)了(le)。射頻CO2激光刻字機也(yě)産生(shēng)了(le)。

随着市(shì)場的變化(huà)與技術的創新(xīn)，市(shì)場上(shàng)半導體激光刻字機的占有量多。因爲其價位适中應用廣。